我们是专业生产适用于半导体（TR、IC）、FPD平板显示（TFT-LCD、CF、TP、OLED、PDP等）、晶体硅太阳能（solar PV）以及LED、硅片、锂电池、光磁等工艺制造过程中的专用湿电子化学品——超净高纯试剂、光刻胶配套试剂的专业制造商。

类别 产品 英文名 应用领域

显影、漂洗液 负胶显影液 Negative PR  Developer IC

负胶漂洗液 Negative PR  Rinse IC

负胶显影漂洗液 Negative PR  Developer & Rinse IC

正胶显影液(TMAH) Developer (TMAH) IC / FPD / OLED

正胶显影液(TMAH含活性剂) Developer (TMAH  with surfactant) IC / FPD / OLED

剥离液 正胶剥离液(水系) Positive PR  Stripper (Water base) FPD / OLED

正胶剥离液(有机系) Positive PR  Stripper (Organic base) IC/FPD / OLED

剥离清洗剂(铝制程) Stripper  (IC- Al process) IC

剥离清洗剂(铜制程) Stripper  (IC- Cu process) IC

剥离去胶液(铝制程) Stripper (Al  process) IC / FPD

剥离去胶液(化合物制程) Stripper  (Compound process) IC / FPD

剥离去胶液(先进封装) Stripper  (Advanced packaging ) IC

酸性剥离液 Nanostripper IC

负胶剥离液 Negative PR  Stripper IC / FPD

清洗剂 稀释剂 Thiner IC / FPD

边胶清洗剂（EBR) Edge Bead  Remover IC / FPD / OLED

清洗剂（铜、铝、PI、ITO） Cleaner (Cu/ Al/  PI/ ITO process) IC / FPD / OLED

蚀刻类 氟化铵腐蚀液(BOE） BOE IC / FPD / OLED  / PV

低张力氟化铵腐蚀液（BOE） Low tension BOE IC  / FPD / OLED / PV

铝蚀刻液 Al Etchant IC / FPD

钼蚀刻液 Mo Etchant IC / FPD

钼铝/钼铝钼蚀刻液 MoAl / MoAlMo  Etchant IC / FPD

硅蚀刻液 Si Etchant IC / FPD / PV

金蚀刻液 Au Etchant IC

镍/银蚀刻液 Ni/Ag Etchant IC / FPD

铜蚀刻液 Cu Etchant IC / FPD

钛蚀刻液 Ti Etchant IC / FPD

铬蚀刻液 Cr Etchant IC

氢氟酸腐蚀液(含活性剂） DHF(With  surfactant) IC / FPD

ITO蚀刻液 ITO Etchant FPD

其他 增粘剂 HMDS IC / FPD