品名： 贝意克大口径动态plasma辅助法卷对卷式石墨烯制备设备

型号： PECVD-150 卷对卷 产品详情 金山科研平台现货促销

该设备为我司研发用于材料连续生长的专用设备，此款设备是快速冷却卷对卷等离子体增强CVD连续生长炉，它由高温生长腔体，质量流量计气路系统，真空机组，RF射频电源模块，石英管，冷却装置，收放卷的密封装置，自动化控制系统组成，两端分别安装有进料进气真空腔室和出料排气真空腔室（即收放卷的密封装置），收放密封装置内分别对应安装有放卷滚轮和收卷滚轮，所输出料排气腔体与炉体之间安装有冷却装置。相对于现有技术具有快速冷却、连续生长的优点。

1.加热系统

**温度	1200℃
使用温度	≤1100℃
炉管尺寸	Φ150mm（炉管直径可根据实际需要定制。）
炉膛材料	氧化铝、高温纤维制品
热电偶类型	K型热电偶
控温精度	±1℃
控温方式	30段可编程控温，PID参数自整定，操作界面为7”工控电脑，内置PLC控制程序。
加热长度	200+200+200mm
加热原件	电阻丝
供电电源	单相，220V，50Hz

2、PE系统

功率输出范围	0W~1000W
**反射功率	200W
射频输出接口	50 Ω, N-type, female
功率稳定度	≤5W
谐波分量	≤-50dbc
供电电压	单相交流（187V-253V）频率50/60HZ
整机效率	>=70%
功率因素	>=90%
冷却方式	强制风冷

3、三路质子流量控制系统

连接头类型	双卡套不锈钢接头
标准量程（N2)	200sccm，500sccm、1000sccm（可根据用户要求定制）
准确度	±1.5%F.S
线性	±1%F.S
重复精度	±0.2%F.S
响应时间	气特性：1～4 Sec，电特性：10 Sec
工作压差范围	0.1～0.5 MPa
**压力	3MPa
接口	Φ6,1/4''
显示	4位数字显示
工作环境温度	5~45高纯气体
压力真空表	－0.1～0.15 MPa, 0.01 MPa/格
截止阀	Φ6
内外双抛不锈钢管	Φ6

4、低真空机组

空气相对湿度	≤85%
工作环境	5℃～40℃
工作电电压	380V
抽气速率	32m³/h
极限真空	5X10-1Pa（空载冷态）
工作压力范围	1.01325X105～1.33X10-2Pa
进气口口径	KF40
排气口口径	KF40
连接方式	采用波纹管，手动挡板阀与波纹管相连